中國微影技術新戰局:LDP 挑戰 EUV 壟斷地位?
- tenlife2019
- 3月19日
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全球半導體技術競爭白熱化,中國力推 LDP 技術破局
在半導體製造領域,微影技術至關重要。隨著摩爾定律推動晶片微型化,極紫外微影(EUV)成為 5 奈米及以下先進製程的關鍵。然而,美國對中國的技術封鎖使得中國無法取得荷蘭艾司摩爾(ASML)公司的 EUV 設備,促使中國積極發展雷射誘導放電電漿(LDP)技術,試圖突破微影瓶頸。

EUV 技術:先進製程的基石
EUV 微影技術使用波長 13.5 奈米的極紫外光來蝕刻微細電路,透過高功率雷射轟擊錫滴產生電漿,進而發射 EUV 光。該技術可製造 5 奈米、3 奈米甚至更先進的晶片,並應用於人工智慧、5G、高效能運算等領域。然而,EUV 設備造價極高,單台機台價格可達 1.7 億美元,且功耗高達 1 兆瓦,導致生產成本居高不下。
LDP 技術:中國的突破口?
面對技術封鎖,中國正在研發 LDP 技術,試圖建立國產 EUV 系統。LDP 利用雷射啟動電漿,並透過電極放電來進一步激發 EUV 光,相較於 ASML 採用的雷射生產電漿(LPP)技術,LDP 結構更簡單、成本更低且能源效率更高。
根據報導,華為東莞工廠正在測試 LDP 系統,計畫 2025 年試生產,並於 2026 年實現量產。哈爾濱工業大學已成功研發出 13.5 奈米 LDP 光源,並計畫提升功率至 250 瓦,以達到商業規模量產的標準。

LDP vs. EUV:技術與成本比較
參數 | EUV (LPP) | LDP |
光源技術 | 高功率雷射照射錫滴 | 雷射觸發錫放電 |
波長 | 13.5 奈米 | 13.5 奈米 |
技術複雜性 | 高,需 FPGA 控制 | 據稱較低 |
目前功率輸出 | 高,適用量產 | 原型機 50-100 瓦 |
穩定性 | 已成熟商用 | 仍在發展 |
能源效率 | 低 | 據稱較高 |
設備成本 | 非常高 | 可能較低 |
營運成本 | 高 | 可能較低 |
解析度 | 13 奈米,高 NA 可達 8 奈米 | 尚未確定 |
產能 | 高 | 未知 |
成熟度 | 商業化成熟 | 研發中 |
從表格可見,EUV 技術成熟且已實現大規模商業應用,而 LDP 則仍處於發展階段。若 LDP 成功突破功率與穩定性瓶頸,將可能成為 EUV 的潛在替代方案。
中國 LDP 發展的全球影響
若中國成功商業化 LDP,將能繞過美國技術封鎖,減少對 ASML 供應鏈的依賴,甚至在先進製程市場與台積電、三星競爭。此外,LDP 技術的發展可能對 ASML 的市場壟斷造成威脅,進一步影響全球半導體供應鏈格局。
然而,業界普遍認為 LDP 與 ASML 的技術差距仍然巨大,即使中國能夠自主生產 EUV 級晶片,要達到 ASML 累積數十年的精密技術仍需時日。此外,美國及其盟友可能加強對關鍵材料(如光阻劑、光罩基板等)的出口管制,進一步阻礙中國 LDP 技術的發展。
結論:LDP 能否挑戰 EUV?
目前,EUV 仍然是最先進半導體製程的標準技術,而 LDP 則作為中國發展自主半導體技術的策略選擇。若 LDP 能夠突破功率輸出、穩定性及產能問題,並建立完整供應鏈,則有可能成為未來先進製程的重要競爭者。
中國的 LDP 計畫不僅關乎技術突破,更涉及地緣政治和全球半導體供應鏈重組。無論最終 LDP 能否成功挑戰 EUV,這場微影技術競賽勢必將深刻影響全球半導體產業的未來發展。
參考資料:
Coherent in Semiconductor Manufacturing: EUV Lithography, https://www.coherent.com/news/blog/euv-lithography
EUV Lithography: Revolutionizing Chip Manufacturing - Giro's Newsletter, https://www.girolino.com/euv-lithography-the-future-of-chip-making/
China Invests €37 Billion to Develop Domestic EUV Lithography Systems, https://www.powerelectronicsnews.com/china-invests-e37-billion-to-develop-domestic-euv-lithography-systems/
Navigating the Future of Lithography: Challenges and Innovations in Semiconductor Manufacturing - The European Financial Review, https://www.europeanfinancialreview.com/navigating-the-future-of-lithography-challenges-and-innovations-in-semiconductor-manufacturing/
Weekly news roundup: China's EUV breakthrough and Chinese lawmakers' proposal for anonymous semiconductor purchases - DIGITIMES Asia, https://www.digitimes.com/news/a20250317VL200/euv-digitimes-asia-production-intel-huawei.html
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